作者EGGELP (小書僮)
看板Physics
標題[問題] 曝光機為什麼要有透鏡
時間Fri Jan 5 03:42:20 2018
大家好~~
最近在看微影製程
早期曝光機是直接將uv光打在光罩再投影到光阻
改良式是先將uv光透過lens產生平行光再投影到光阻
想詢問為何要這樣做~~
有上網找不太到相關訊息~
會不會跟近場遠場繞射影響解低度有關??
有人能跟我說或是我該去上網找哪些關鍵字
謝謝大家回答
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1F：→ linbryan: 答案就在你問題裏，平行光。 01/05 08:00
2F：→ EGGELP: 請問是否為平行光跟解析度有關嗎 01/05 13:04
3F：→ EGGELP: 平行光的好處是？ 01/05 13:05
4F：→ MUMUKON: 平行光照射光罩產生的影子才不會變型 01/05 16:50
5F：→ MUMUKON: 理論上是這樣啦 實際上科科 01/05 16:51
6F：→ linbryan: 你把點光源，畫出等intensity lines就看得出了 01/05 21:40
7F：推 yeahbo: 因為會繞射，直接投影的話要把繞射效應降到最低就需要把 01/05 23:35
8F：→ yeahbo: 光阻放到離光罩極度接近、甚至貼在一起的程度，這種做法會 01/05 23:36
9F：→ yeahbo: 沒有量產價值，因為光罩的損壞速度會很快，這也是奈米壓印 01/05 23:37
10F：→ yeahbo: 的罩門 XD 所以之後就是採用光學成像投影的方法來做，然後 01/05 23:37
11F：→ yeahbo: 還會在光罩下面加一層保護層(pellicle)，然後因為EUV找不 01/05 23:39
12F：→ yeahbo: 到可以用的pellicle，所以量產困難，當然EUV還有其他難題 01/05 23:39
13F：→ yeahbo: 然後光學成像的縮小倍率從一開始的1:1之後也做了很多調整 01/05 23:40
14F：→ yeahbo: 現在量產通常是用1:4 or 1:5，會選這個比例的理由我忘記了 01/05 23:41
15F：→ yeahbo: 但是好處之一就是光罩會比較好製作，如果是45nm製程，1:4 01/05 23:43
16F：→ yeahbo: 光罩的最小線寬就是180nm，這線寬對e-beam來說很簡單 01/05 23:44
17F：→ yeahbo: 另外，為何要保護光罩，因為這東西超貴，先進製程(XX nm) 01/05 23:45
18F：→ yeahbo: 用的光罩，一塊可以貴到幾百萬新台幣... 01/05 23:45
19F：→ yeahbo: 糟糕，我看錯問題了，上面當我沒說 XD 01/05 23:48
20F：→ j0958322080: 現在也沒在用平行光了吧，先進製程不是用OAI? 01/06 00:12
21F：→ EGGELP: 感謝各位大大回答~~謝謝大家 01/06 13:24