作者EGGELP (小书僮)
看板Physics
标题[问题] 曝光机为什麽要有透镜
时间Fri Jan 5 03:42:20 2018
大家好~~
最近在看微影制程
早期曝光机是直接将uv光打在光罩再投影到光阻
改良式是先将uv光透过lens产生平行光再投影到光阻
想询问为何要这样做~~
有上网找不太到相关讯息~
会不会跟近场远场绕射影响解低度有关??
有人能跟我说或是我该去上网找哪些关键字
谢谢大家回答
--
※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc), 来自: 220.142.101.129
※ 文章网址: https://webptt.com/cn.aspx?n=bbs/Physics/M.1515094947.A.392.html
1F：→ linbryan: 答案就在你问题里，平行光。 01/05 08:00
2F：→ EGGELP: 请问是否为平行光跟解析度有关吗 01/05 13:04
3F：→ EGGELP: 平行光的好处是？ 01/05 13:05
4F：→ MUMUKON: 平行光照射光罩产生的影子才不会变型 01/05 16:50
5F：→ MUMUKON: 理论上是这样啦 实际上科科 01/05 16:51
6F：→ linbryan: 你把点光源，画出等intensity lines就看得出了 01/05 21:40
7F：推 yeahbo: 因为会绕射，直接投影的话要把绕射效应降到最低就需要把 01/05 23:35
8F：→ yeahbo: 光阻放到离光罩极度接近、甚至贴在一起的程度，这种做法会 01/05 23:36
9F：→ yeahbo: 没有量产价值，因为光罩的损坏速度会很快，这也是奈米压印 01/05 23:37
10F：→ yeahbo: 的罩门 XD 所以之後就是采用光学成像投影的方法来做，然後 01/05 23:37
11F：→ yeahbo: 还会在光罩下面加一层保护层(pellicle)，然後因为EUV找不 01/05 23:39
12F：→ yeahbo: 到可以用的pellicle，所以量产困难，当然EUV还有其他难题 01/05 23:39
13F：→ yeahbo: 然後光学成像的缩小倍率从一开始的1:1之後也做了很多调整 01/05 23:40
14F：→ yeahbo: 现在量产通常是用1:4 or 1:5，会选这个比例的理由我忘记了 01/05 23:41
15F：→ yeahbo: 但是好处之一就是光罩会比较好制作，如果是45nm制程，1:4 01/05 23:43
16F：→ yeahbo: 光罩的最小线宽就是180nm，这线宽对e-beam来说很简单 01/05 23:44
17F：→ yeahbo: 另外，为何要保护光罩，因为这东西超贵，先进制程(XX nm) 01/05 23:45
18F：→ yeahbo: 用的光罩，一块可以贵到几百万新台币... 01/05 23:45
19F：→ yeahbo: 糟糕，我看错问题了，上面当我没说 XD 01/05 23:48
20F：→ j0958322080: 现在也没在用平行光了吧，先进制程不是用OAI? 01/06 00:12
21F：→ EGGELP: 感谢各位大大回答~~谢谢大家 01/06 13:24