作者kurtgod (kurt神)
看板Physics
標題[問題] PEALD機台
時間Tue Jul 4 16:53:57 2017
這問題感覺是發在物理版較適合XD
目前服務的公司客戶有個需求
要鍍Al2O3的film去做封裝
我問了為什麼不用公司現有的PECVD或是ALD就好(RD就說PEALD較佳)
公司目前的PEALD也還沒組出來
所以只能委託實驗室或研究機構代工
條件如下
厚度約20~40nm
製程溫度需控制在80-100度C
有問過成大光電的老師 他的PEALD是200~300度C之間
目前有查到台大材料陳敏璋教授有這設備 但還沒詢問
不知有沒有對這機台了解的板友知道哪個學術機構有這設備可代工?
以上
感謝版友回答
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1F：推 boson5566: 陳的溫度也是200~300左右 之前長過一次低溫就壞了07/04 22:29
2F：→ hank780420: 有問過NDL嗎?07/05 18:05
陳的溫度也是這麼高喔？
問個蠢問題
溫度不是可以自行控制嗎？
NDL只有ALD......
我朋友說他們公司有 但是是TSMC.....來亂的.....
※ 編輯: kurtgod (42.77.213.162), 07/05/2017 19:17:46
3F：→ boson5566: chamber都有最佳條件 突然改變溫度會讓條件不穩 07/05 21:36
4F：→ yeahbo: ALD的反應溫度通常就是200~300度C，你想要降到80~100度C 07/06 12:12
5F：→ yeahbo: 就是要靠PEALD才"有機會"，而且要找到機器有特別調過的 07/06 12:13
6F：→ hank780420: 這麼低溫應該不好找 80度可能都比某些機台管線持溫 07/07 17:03
7F：→ hank780420: 還低了 07/07 17:03
8F：→ yeahbo: TMA還好啦，記得室溫還是低溫就可以有足夠蒸氣壓了 07/08 00:31