作者ohdam (Boring !!!)
看板Physics
標題請問 水漬
時間Sun Aug 19 08:38:05 2007
不清楚在這發問合不合適
只是這邊似乎有蠻多有經驗從事半導體方面之人士
想請問 像一邊在處理晶圓等的材料很容易發現上面有水漬
"似乎"在就算在無塵室裡只要沖洗晶圓未以合適之吹乾方式就會殘有水漬
我想問的是 那個水漬(應該說水紋)是甚麼呢!?
是髒東西 還是水分子殘在晶圓表面而帶不走呢
謝謝
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 124.8.14.78
1F：推 sputtering:用線上的XRD去打 08/19 10:49
2F：→ sputtering:印象中晶圓廠的晶圓都是用旋乾的 如果有一大particle 08/19 10:50
3F：→ sputtering:擋住 造成旋乾時的水分岔 留下水漬就很有可能 08/19 10:52
4F：→ sputtering:不過我已離開那斯太久早就忘光光XDXD 08/19 10:54
5F：推 fola:呵呵 從事半導體工作的人就是要解決這些雞毛蒜皮可是卻會造 08/19 11:19
6F：→ fola:會造成重大影響的事 08/19 11:24
7F：→ fauna:水中的雜質吧 08/19 11:51
8F：→ fauna:用吹的是把水連雜質一起吹走 08/19 11:51
9F：推 sputtering:一班處理晶圓表面除了用水衝/超音波震動/用小刷子刷 08/19 11:56
10F：→ sputtering:還有很多方法 只不過要討論適用情況 08/19 12:02
11F：→ wonds:水中的雜質和空氣中的微粒 一般普通無塵室的微粒還是很多 08/31 23:40