作者chuanjung (Handsome boy)
看板graduate
標題[請益] 請問濺鍍一些問題!!!
時間Thu Oct 11 13:31:08 2012
小弟我有些疑問想請教~
我要鍍鋁薄膜~但目前鍍出來都是滿粗糙的(不連續,一顆一顆的,鍍膜厚度300nm)
小弟有懷疑過是
1. 靶材耗損(差不多快用完哩)
2. 壓力的改變(從監控面板上看是沒有變化的)
3. 製程溫度(我是室溫鍍膜,會有溫度的話應該是IONS BOUNBARD造成)
我想請問 如果把材耗損~那電漿密度以及壓力是否會有些許改變呢?
謝謝!! 因為如果壓力改變 MEAN FREE PATH 就會改變
一改變 BOUNBARD現象改變 製程溫度也會跟著改變
增加移動率 使鋁很容易團結 行程不連續薄膜~這是我的推論
不知道是否是這樣呢? 謝謝!!!
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◆ From: 140.96.45.147
1F:→ chuanjung:是 BOMBARD 打錯哩!! 10/11 13:33
2F:推 gutsgo:溫度越高 均勻性越差?? 10/11 13:42
3F:→ chuanjung:應該也不是 10/11 15:16
4F:推 j20006640:腔體裡所有的東西都有清乾淨嗎 這影響其實也滿大的 10/11 23:12