作者yako0411 (oklala)
看板comm_and_RF
標題[請益] 有關PECVD
時間Sun Mar 25 01:23:52 2018
想請問PECVD有沒有推薦用書??專門或是比較詳細一點的有關於PECVD的書
另外有個問題...想請問說在生成SiO2薄膜上使用SiH4以及使用TEOS有什麼差別嗎?
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1F：推 seda: 用PECVD的好處是可以低溫（300-400度）沉積S 118.150.165.10 04/09 22:55
2F：→ seda: iO, 用SiH4和N2O。TEOS需要溫度比較高，step 118.150.165.10 04/09 22:55
3F：→ seda: coverage 也比較好 118.150.165.10 04/09 22:55