作者yako0411 (oklala)
看板comm_and_RF
标题[请益] 有关PECVD
时间Sun Mar 25 01:23:52 2018
想请问PECVD有没有推荐用书??专门或是比较详细一点的有关於PECVD的书
另外有个问题...想请问说在生成SiO2薄膜上使用SiH4以及使用TEOS有什麽差别吗?
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1F：推 seda: 用PECVD的好处是可以低温（300-400度）沉积S 118.150.165.10 04/09 22:55
2F：→ seda: iO, 用SiH4和N2O。TEOS需要温度比较高，step 118.150.165.10 04/09 22:55
3F：→ seda: coverage 也比较好 118.150.165.10 04/09 22:55