作者bor0306 (博)
看板comm_and_RF
標題[問題] 請問為什麼DC SPUTTER鍍率會比RF SPUTTER快呢?
時間Wed Mar 17 15:36:16 2010
如題~
因為明天要考機台，所以想問一下原理~~
學長有提示說DC SPUTTER會鍍的比較快，
和電漿的暗區有關係，
他的電位分布不是平均分配在基板與靶材的距離，
不知道有沒有大大可以跟我解釋的呢> <???
謝謝大大!!!
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