作者bor0306 (博)
看板comm_and_RF
标题[问题] 请问为什麽DC SPUTTER镀率会比RF SPUTTER快呢?
时间Wed Mar 17 15:36:16 2010
如题~
因为明天要考机台，所以想问一下原理~~
学长有提示说DC SPUTTER会镀的比较快，
和电浆的暗区有关系，
他的电位分布不是平均分配在基板与靶材的距离，
不知道有没有大大可以跟我解释的呢> <???
谢谢大大!!!
--
※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 163.25.98.164