作者blisslatch (風城阿草)
看板comm_and_RF
標題Re: [問題] clean sample
時間Fri Sep 18 15:08:00 2009
※ 引述《landau0426 (事事順心)》之銘言：
: 想請問ㄧ下
: silicon wafer經過標準程序的清洗
: 丙酮...甲醇...DI...硫酸+雙氧水(3:1)...DI...BOE
: 要如何確認有清洗乾淨
: 聽有人說好像滴水上去,看看會不會殘留
: 有什麼方法可以確定乾淨
: 或是還有什麼標準清洗程序
: 謝謝
清洗的最後一個步驟DI water rinse時，
會量測槽中的water阻值是否達到一定的高阻抗數，
以判斷是否已清洗乾淨!
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ㄇ ㄇ 監獄豬：
@ @ 你他媽的老子今天不加班！
( (oo) ) ~~~啾咪~~~喔咿~~~
︺
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 140.110.207.108