作者blisslatch (风城阿草)
看板comm_and_RF
标题Re: [问题] clean sample
时间Fri Sep 18 15:08:00 2009
※ 引述《landau0426 (事事顺心)》之铭言：
: 想请问ㄧ下
: silicon wafer经过标准程序的清洗
: 丙酮...甲醇...DI...硫酸+双氧水(3:1)...DI...BOE
: 要如何确认有清洗乾净
: 听有人说好像滴水上去,看看会不会残留
: 有什麽方法可以确定乾净
: 或是还有什麽标准清洗程序
: 谢谢
清洗的最後一个步骤DI water rinse时，
会量测槽中的water阻值是否达到一定的高阻抗数，
以判断是否已清洗乾净!
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ㄇ ㄇ 监狱猪：
@ @ 你他妈的老子今天不加班！
( (oo) ) ~~~啾咪~~~喔咿~~~
︺
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 140.110.207.108