作者landau0426 (事事順心)
看板comm_and_RF
標題[問題] clean sample
時間Thu Aug 27 14:37:34 2009
想請問ㄧ下
silicon wafer經過標準程序的清洗
丙酮...甲醇...DI...硫酸+雙氧水(3:1)...DI...BOE
要如何確認有清洗乾淨
聽有人說好像滴水上去,看看會不會殘留
有什麼方法可以確定乾淨
或是還有什麼標準清洗程序
謝謝
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