作者landau0426 (事事顺心)
看板comm_and_RF
标题[问题] clean sample
时间Thu Aug 27 14:37:34 2009
想请问ㄧ下
silicon wafer经过标准程序的清洗
丙酮...甲醇...DI...硫酸+双氧水(3:1)...DI...BOE
要如何确认有清洗乾净
听有人说好像滴水上去,看看会不会残留
有什麽方法可以确定乾净
或是还有什麽标准清洗程序
谢谢
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