※ [本文轉錄自 Physics 看板] 作者: carman (距離的美感) 看板: Physics 標題: [問題]Anneal的問題 時間: Wed May 14 21:58:35 2008 我的基板材料是GaAs 在台灣我做P ohmic　是鍍 Ti/Pt/Ti/Au 700A/500A/200A/3000A anneal 每分鐘升100度　425度 2分鐘　裡頭充氮氣 　　　　　　　Ｎ　ohmic 是鍍　Au,Ge,Ni合金/Au 1500A/3000A anneal 每分鐘升100度　385度 2分鐘　裡頭充氮氣 在新學校,由於機器設備限制,我參考畢業學長的論文 　　基板材料還是GaAs P ohmic　是鍍 Pd/Zn/Pd/Au 100A/200A/200A/3000A Ｎ　ohmic 是鍍　Ni/Ge/Au/Ti/Au 250A/325A/650A/200A/3000A anneal 是用充氮氣的箱子裡頭兩個Hot plate 250度 30秒 再400度 1分鐘 再250度 30秒(P和N共做一次) 這幾天學校有找到台RTA的機器 能否煩請有經驗的版友提供我 在GaAs基板 P ohmic　Pd/Zn/Pd/Au 100A/200A/200A/3000A Ｎ　ohmic Ni/Ge/Au/Ti/Au 250A/325A/650A/200A/3000A RTA的溫度和時間,每分鐘升溫速度等參數..金屬厚度的部分若板友有較佳的條件 也煩請分享與提供,感激不盡,謝謝!! -- 不再想,不再愛,不再懂,不再繼續 心就像漏水的房間而自己太多的重疊反而模糊 失去的不必再追回,那個刻意塵封的記憶從此沒有遺憾 --

※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 98.209.26.223 -- 不再想,不再愛,不再懂,不再繼續 心就像漏水的房間而自己太多的重疊反而模糊 失去的不必再追回,那個刻意塵封的記憶從此沒有遺憾 --

※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc) ◆ From: 98.209.26.223