※ [本文转录自 Physics 看板] 作者: carman (距离的美感) 看板: Physics 标题: [问题]Anneal的问题 时间: Wed May 14 21:58:35 2008 我的基板材料是GaAs 在台湾我做P ohmic　是镀 Ti/Pt/Ti/Au 700A/500A/200A/3000A anneal 每分钟升100度　425度 2分钟　里头充氮气 　　　　　　　Ｎ　ohmic 是镀　Au,Ge,Ni合金/Au 1500A/3000A anneal 每分钟升100度　385度 2分钟　里头充氮气 在新学校,由於机器设备限制,我参考毕业学长的论文 　　基板材料还是GaAs P ohmic　是镀 Pd/Zn/Pd/Au 100A/200A/200A/3000A Ｎ　ohmic 是镀　Ni/Ge/Au/Ti/Au 250A/325A/650A/200A/3000A anneal 是用充氮气的箱子里头两个Hot plate 250度 30秒 再400度 1分钟 再250度 30秒(P和N共做一次) 这几天学校有找到台RTA的机器 能否烦请有经验的版友提供我 在GaAs基板 P ohmic　Pd/Zn/Pd/Au 100A/200A/200A/3000A Ｎ　ohmic Ni/Ge/Au/Ti/Au 250A/325A/650A/200A/3000A RTA的温度和时间,每分钟升温速度等参数..金属厚度的部分若板友有较佳的条件 也烦请分享与提供,感激不尽,谢谢!! -- 不再想,不再爱,不再懂,不再继续 心就像漏水的房间而自己太多的重叠反而模糊 失去的不必再追回,那个刻意尘封的记忆从此没有遗憾 --

※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc) ◆ From: 98.209.26.223 -- 不再想,不再爱,不再懂,不再继续 心就像漏水的房间而自己太多的重叠反而模糊 失去的不必再追回,那个刻意尘封的记忆从此没有遗憾 --

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