原文標題：中國複製ASML的曝光機只是模型？專家解密 ※請勿刪減原文標題 原文連結：https://ec.ltn.com.tw/article/breakingnews/5284914 ※網址超過一行過長請用縮網址工具 發布時間：2025/12/21 09:45 ※請以原文網頁/報紙之發布時間為準 記者署名： ※原文無記載者得留空 原文內容： 《路透》日前披露，中國招聘荷蘭半導體設備巨頭ASML前工程師，以逆向工程打造出華府 耗費多年，阻止中國取得的半導體製造設備極紫外光曝光機（EUV；Extreme Ultraviolet ）原型機，引發外界關注。對此，數位創作者Eric Lin表示看法，認為中國此舉這不只是 對技術的誤解，更是對統計學的公然挑戰，並指中國「錢能解決一切」的土豪邏輯，面對 EUV這台被喻為「外星科技」的集合體時，只會撞得頭破血流。 Eric Lin週六（20日）在臉書發文指出，中國現在試圖集合幾百個挖角來的前ASML中國籍 工程師，意圖複製這項從研發初期至今、全球累積超過數十萬名頂尖大腦的智慧總和。這 不僅是對技術的不敬，更是對統計學的蔑視。 即便我們退一萬步假設，中國傾盡舉國之力，透過各種灰色管道湊齊零組件，真的在上海 或北京某個無塵室裡，組裝出了一台「長得像」EUV的機器：它有巨大的白色外殼，有傳 送晶圓的軌道，甚至開機時還會發出類似的運轉聲。但這台機器的命運，註定只能是一個 昂貴的工業模型，而不是能印鈔票的曝光機。 為什麼？原因很簡單，因為EUV從來就不是樂高積木。Eric Lin稱，把特斯拉拆散了，或 許能依樣畫葫蘆造出能跑的電動車；但把ASML的EUV拆散了，你只能得到一堆幾十億台幣 的廢鐵。這不是關於單一零件的逆向工程，這是一場關於「極限整合」與「隱性知識」的 物理學障礙賽。 一般人看EUV，只看到德國蔡司的鏡頭、美國Cymer的光源。這當然沒錯，但那只是冰山露 出水面的那一角。真正無法複製的，是 ASML 如何讓來自全球、超過十萬個頂級零組件， 在奈米尺度下精準協作。 試著想像這個場景：你要用雷射在幾十公尺外擊中一顆正在掉落的蘋果，而且要連續擊中 5萬次。這還不夠，這顆蘋果本身還在一個高速旋轉的轉盤上。這就是EUV內部的真實寫照 。 除了光學系統，EUV內部必須維持「極度真空」。因為極紫外光的波長極短，空氣中任何 一點氣體分子都會把光線吸收殆盡。這意味著ASML必須打造一個比外太空還要乾淨的真空 腔體，而且在這個腔體內，還有高速移動的工件台在運作。而這直接引出了另一個被低估 的技術黑洞—雙工件台系統（Twinscan）。 Eric Lin稱，要在晶圓上刻電路，晶圓台移動的速度快得驚人，且急停急煞的加速度極大 。中國目前連在常壓下控制這種精度的機械手臂都還不穩定，更別提在真空中利用磁懸浮 技術，去驅動2個重達幾噸的工件台進行「華爾茲」。這2個台子一個在曝光，另一個在測 量，彼此切換的時間是以毫秒計算，誤差必須控制在奈米等級。 「動態整合能力」差0.001秒 雷射就會打偏 只要震動稍微大一點點，或者磁懸浮的控制演算法稍微慢了0.001秒，雷射就會打偏，整 片價值數萬美元的晶圓就直接報銷。這種「動態整合能力」，不是買幾張藍圖就能學會的 。 Eric Lin稱，如果說硬體是骨架，那軟體就是靈魂。這正是中國最感到無力的地方，即便 他們透過高薪挖角，找來了那些曾經參與組裝的前ASML中國工程師，也無濟於事。這些人 或許能憑藉記憶，教你怎麼把這堆複雜的樂高積木拼起來；他們看過圖紙，知道骨架怎麼 搭、外殼怎麼鎖，甚至能完美復刻出機台的物理外型。但這就是極限了。因為他們抄到了 肉體，卻註定抄不到靈魂。 Eric Lin表示，EUV內部運行著超過5000萬行的控制程式碼，規模甚至超過波音787，這套 軟體系統不是單純的「開關控制」，它是一套具備自我修正能力的超級大腦。 EUV運作時會產生高熱，鏡頭會熱膨脹，機台會微幅變形。ASML的感測器遍布機身，即時 監控這些微小的物理變化，並透過演算法即時調整鏡頭位置與雷射功率進行補償。 中國目前的困境在於，他們或許能寫出控制機械手臂動作的程式，但無法寫出這種「基於 幾十年物理數據累積」的補償演算法。這些數據是ASML在過去30年裡，透過無數次失敗累 積下來的「工業直覺」。沒有這些參數，光有硬體，就像給了一個剛拿到駕照的新手一台 F1賽車，他連起步都會熄火。 EUV是ASML與台積電共同養出的怪獸 最後，也是最殘酷的一點，EUV根本不是ASML一家公司造出來的。Eric Lin稱，EUV是ASML 與全球頂尖客戶（尤其是台積電）共同「養」出來的怪獸。一台新機器的原型機往往充滿 缺陷，只有放到台積電這種對良率有著變態要求的工廠裡，24小時不間斷地運轉，才能暴 露出隱藏的問題。 台積電的工程師經常發現連ASML自己都沒發現的Bug，比如某個特定角度的曝光會造成邊 緣模糊，或是某個頻率的震動會影響對準精度。這些來自第一線的「反饋數據」，是ASML 修正機器、最佳化下一代產品的養分，於是形成正循環：台積電用得越多，ASML 改得越 好；ASML 改得越好，台積電良率越高。 反觀中國，連DUV微影機都還沒能完全吃透，良率控制依舊成謎。在缺乏頂級製程回饋的 前提下，試圖憑空打造EUV的控制邏輯，這不叫研發，而是盲人摸象。 連走路（DUV）都還會跌倒，就想要學飛（EUV），中國彎道超車最後卻翻車的案例太多了 ，就連電動車產業，最近中國車廠也接連翻車，都是因為沒徹底抄，還自作聰明以為可以 省略範本中的"多餘"部份。 最後，Eric Lin做出結論，稱中國或許能用錢砸出光學鏡片，也能挖角工程師做出雷射光 源，甚至能組裝出一個外型一模一樣的EUV空殼。但那個結合了德國光學、美國光源、荷 蘭系統整合，以及台灣製程工藝的複雜生態系，是無法被單一國家復刻的。 這不是看不起中國的製造能力，而是對工業文明積累的敬畏。在物理學與供應鏈的鐵律面 前，民族主義的熱情，終究得讓位給冷冰冰的良率數據。 目前中國砸重金都複製不出台積電在DUV時代的光榮，同樣用多重顯影，良率只有當年台 積電的5分之1，現在還想要複製EUV？ 心得/評論： EUV真的不愧是世界上最複雜的機器阿 裡面的眉角,Knowhow太多了 ASML與眾多合作夥伴也是經過很長時間的累積與經驗反饋才有今日的成就 這個護城河還是很寬廣 ※必需填寫滿30正體中文字，無意義者板規處分 -- --

※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 58.114.3.82 (臺灣) ※ 文章網址: https://webptt.com/m.aspx?n=bbs/Stock/M.1766417235.A.591.html