作者swluenswluen (放肆搖滾)
看板Physics
標題[閒聊] 化合物之生成熱 (跪求高手)
時間Thu Oct 21 16:42:02 2010
在看paper時，SiGe 這材料在氧化時 因為SiO2與GeO2的生成熱差距很大
(SiO2:204 kcal/mol、GeO2:114 kcal/mol) 所以Si較容易起反應
問過朋友是說因為 SiO2 較為穩定 所以Si會先與氧原子形成二氧化矽
這個解釋我不是很懂，有沒有其他解釋比較能夠說明是什麼原因造成 Si 會先起反應呢
拜託了 QQ
--
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 140.115.72.46
1F：→ litcurler:系統傾向反應至低能態. 即便產生GeO2,隨後也會和Si反應 10/22 11:31