作者yellowfishie (喵喵喵喵~~~)
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標題[新聞] 台積電45奈米製程 跨出一大步
時間Thu Feb 23 13:40:34 2006
台積電45奈米製程 跨出一大步
台積電向四五奈米製程跨出重大一步，台積聞名全球的「浸潤式曝光顯影技術」已經達
到量產能力，昨天台積電宣布，十二吋晶片測試時，晶片缺陷已經可以降到七個，缺陷密
度低到每平方公分○．○一四的程度。
「浸潤式曝光顯影技術」是台積電獨步全球的技術發明，由於在四五奈米以下的先進
製程需要更精密的顯影技術，否則無法準確進行光罩蝕刻等程序。昨日台積電宣布克服「
浸潤式曝光顯影技術」目前的困難，缺陷度趨近於零，可說為四五奈米製程裝配了重要武
器。
台積電微製像技術發展處資深處長林本堅並將在今日聖荷西舉辦的SPIE
Microlithograph研討會中，發表上述結果。
由於在高階先進製程中，曝光顯影技術必須更細微、更精確，才能配合越來越小的導
線、元件配置作業，曝光時所採用的光波長就必須縮短，否則無法推進到更小奈米數的製
程，這是包括IBM在內，所有半導體業者對未來感到不確定性升高的原因，目前學界仍常
有專文辯論三十二奈米製程是否真的可行。
昨日台積電宣布將相關技術推進到只剩七個缺陷，在測試過程中，甚至發現僅有三個
缺陷的十二吋晶圓，大幅增加晶片製作過程中的良率。
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1F：推 nextme:浸潤式曝光顯影技術 這是什麼技術呀? 02/23 15:31
2F：→ gwliao:就是把液體來改變NA, 讓機台做更小的製程 02/23 16:33
3F：→ gwliao:fish貼的文章 "衝破晶圓製造瓶頸的一滴水" 02/23 16:35
4F：推 moonshade:喂喂...meeting都沒認真勒..這個DFM講了好幾次了XD 02/23 17:43
5F：→ moonshade:簡單來說就是泡水讓波長變短... 02/23 17:44
6F：推 nextme:XD 我大略知道那是什麼 不過想知道更仔細一點 02/23 22:51
7F：→ nextme:因為我覺得還挺神奇的 02/23 22:51
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