作者yellowfishie (喵喵喵喵~~~)
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标题[新闻] 台积电45奈米制程 跨出一大步
时间Thu Feb 23 13:40:34 2006
台积电45奈米制程 跨出一大步
台积电向四五奈米制程跨出重大一步，台积闻名全球的「浸润式曝光显影技术」已经达
到量产能力，昨天台积电宣布，十二寸晶片测试时，晶片缺陷已经可以降到七个，缺陷密
度低到每平方公分○．○一四的程度。
「浸润式曝光显影技术」是台积电独步全球的技术发明，由於在四五奈米以下的先进
制程需要更精密的显影技术，否则无法准确进行光罩蚀刻等程序。昨日台积电宣布克服「
浸润式曝光显影技术」目前的困难，缺陷度趋近於零，可说为四五奈米制程装配了重要武
器。
台积电微制像技术发展处资深处长林本坚并将在今日圣荷西举办的SPIE
Microlithograph研讨会中，发表上述结果。
由於在高阶先进制程中，曝光显影技术必须更细微、更精确，才能配合越来越小的导
线、元件配置作业，曝光时所采用的光波长就必须缩短，否则无法推进到更小奈米数的制
程，这是包括IBM在内，所有半导体业者对未来感到不确定性升高的原因，目前学界仍常
有专文辩论三十二奈米制程是否真的可行。
昨日台积电宣布将相关技术推进到只剩七个缺陷，在测试过程中，甚至发现仅有三个
缺陷的十二寸晶圆，大幅增加晶片制作过程中的良率。
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◆ From: 61.220.92.244
1F：推 nextme:浸润式曝光显影技术 这是什麽技术呀? 02/23 15:31
2F：→ gwliao:就是把液体来改变NA, 让机台做更小的制程 02/23 16:33
3F：→ gwliao:fish贴的文章 "冲破晶圆制造瓶颈的一滴水" 02/23 16:35
4F：推 moonshade:喂喂...meeting都没认真勒..这个DFM讲了好几次了XD 02/23 17:43
5F：→ moonshade:简单来说就是泡水让波长变短... 02/23 17:44
6F：推 nextme:XD 我大略知道那是什麽 不过想知道更仔细一点 02/23 22:51
7F：→ nextme:因为我觉得还挺神奇的 02/23 22:51
8F：推 supermark:他这学期在台大有开课 - 微影术理论和应用 02/24 00:15