對不起，不知道在這裡問適不適合， 不過真的滿急的，我也不是本科，只好來求救... 製程中有一部份是微影技術， 其中有利用"相移式光罩(phase shift mask)"來提升原始圖案轉印在晶圓上的解析度， 其中有一部份我看不太懂， "有關於當罩幕上的原始圖案間距/線寬比在3.0-6.5之間時， 外輔助圖案和內輔助圖案的配置方式。 習知技藝中當原始圖案間距/線寬比大於6.5時， 會在每一個獨立線條外側配置輔助圖案， 使其能獲得充分的製程窗口(process window)， 一個充分的製程窗口能確保投影的影像線條與原圖形線條一致。" "當原始圖案間距/線寬比小於3.0時，則僅在最外側線條配置輔助圖案， 在密度甚高的線條間並不配置輔助圖案， 因為若在密度甚高的線條間配置輔助圖案的話， 很容易就會產生sidelobe的問題或是增加罩幕誤差因子。" 想請問各位，process window、sidelobe是什麼意思... 還有配置所謂的輔助圖案是利用什麼原理減少上述的問題？ 非常感謝解答 -- 我們道聲再見。我目送計程車消失。 我回到台階上，走進臥室，把床鋪整個弄亂重新鋪。 其中一個枕頭上有一根淺色長髮。我的胃裡好像沈著一塊重重的鉛。 法國人有一句話形容那種感覺。 那些雜種們對任何事都有個說法，而且永遠是對的。 道別等於死去一點點。 --

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