对不起，不知道在这里问适不适合， 不过真的满急的，我也不是本科，只好来求救... 制程中有一部份是微影技术， 其中有利用"相移式光罩(phase shift mask)"来提升原始图案转印在晶圆上的解析度， 其中有一部份我看不太懂， "有关於当罩幕上的原始图案间距/线宽比在3.0-6.5之间时， 外辅助图案和内辅助图案的配置方式。 习知技艺中当原始图案间距/线宽比大於6.5时， 会在每一个独立线条外侧配置辅助图案， 使其能获得充分的制程窗口(process window)， 一个充分的制程窗口能确保投影的影像线条与原图形线条一致。" "当原始图案间距/线宽比小於3.0时，则仅在最外侧线条配置辅助图案， 在密度甚高的线条间并不配置辅助图案， 因为若在密度甚高的线条间配置辅助图案的话， 很容易就会产生sidelobe的问题或是增加罩幕误差因子。" 想请问各位，process window、sidelobe是什麽意思... 还有配置所谓的辅助图案是利用什麽原理减少上述的问题？ 非常感谢解答 -- 我们道声再见。我目送计程车消失。 我回到台阶上，走进卧室，把床铺整个弄乱重新铺。 其中一个枕头上有一根浅色长发。我的胃里好像沈着一块重重的铅。 法国人有一句话形容那种感觉。 那些杂种们对任何事都有个说法，而且永远是对的。 道别等於死去一点点。 --

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