作者Jimmyyyyy (@@方@)
看板NEMS
標題[問題] 微流道雙層母模之光罩對準
時間Tue Mar 20 22:05:51 2018
請問有人知道雙層SU-8微流道母模的標準製程嗎？
這個結構是需要二次曝光，以做出能翻模出有兩種高度的微流道的母模，目前在考慮光罩
與wafer的對準設計，以下是預計的作法:
1. 在乾淨的wafer上先用有顏色的薄膜光阻(1~3 micron)做出mark(小方塊陣列)
2. 上第一層SU-8(約100 micron)，軟烤後以第一層光罩上的mark(大方框陣列)與薄膜光
阻mark對準後曝光，再曝後烤
3. 上第二層SU-8(約50 micron)，軟烤後以第二層光罩上的mark(一樣的大方框陣列)與薄
膜光阻mark對準後曝光，再曝後烤
4. 顯影清洗後完成
各位覺得這樣會有哪些問題呢? 有人有做過類似結構的經驗或是有標準protocal可以參考
嗎？ 謝謝~
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※ 編輯: Jimmyyyyy (115.82.49.102), 03/20/2018 22:07:04