作者Jimmyyyyy (@@方@)
看板NEMS
标题[问题] 微流道双层母模之光罩对准
时间Tue Mar 20 22:05:51 2018
请问有人知道双层SU-8微流道母模的标准制程吗？
这个结构是需要二次曝光，以做出能翻模出有两种高度的微流道的母模，目前在考虑光罩
与wafer的对准设计，以下是预计的作法:
1. 在乾净的wafer上先用有颜色的薄膜光阻(1~3 micron)做出mark(小方块阵列)
2. 上第一层SU-8(约100 micron)，软烤後以第一层光罩上的mark(大方框阵列)与薄膜光
阻mark对准後曝光，再曝後烤
3. 上第二层SU-8(约50 micron)，软烤後以第二层光罩上的mark(一样的大方框阵列)与薄
膜光阻mark对准後曝光，再曝後烤
4. 显影清洗後完成
各位觉得这样会有哪些问题呢? 有人有做过类似结构的经验或是有标准protocal可以参考
吗？ 谢谢~
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※ 编辑: Jimmyyyyy (115.82.49.102), 03/20/2018 22:07:04