作者qqalex (大白)
看板NEMS
標題[問題] wafer ebr 洗完後毛邊
時間Tue Sep 26 15:18:54 2017
不好意思，請教各位
小弟正在進行光阻塗布fine tune實驗
已知目前洗邊（40s)光阻還太濕,最後一步旋乾光阻還會溢出來,產生毛邊
已有一解法增加洗邊時間到100s可解決，但時間太久了，throughput減少
除此了這個方法
在參數設定上還有什麼調整方向呢？
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1F：推 yuchungyi: 轉速 加速度 撒些DOE看一下 快慢快之類的 09/27 23:32
2F：推 denniswave: 換個 CP 比較高的？然後主轉速拉高看看 09/28 22:24