作者yys83422 (DukeFish)
看板NEMS
標題[問題] oxygen RIE 蝕刻
時間Fri Mar 17 17:21:16 2017
大家好，最近想做Teflon的蝕刻
因為RIE機器目前有些問題，想請問我可以使用氧電漿處理機（其他人都拿來做pdms表面
改質）代替嗎？
看起來原理相同，不過還是想確認一下
我使用的參數為100W 15sccm 20~30min
不過參數還要做測試，也想另外請問有人有蝕刻teflon的經驗嗎？
謝謝！
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1F：→ jam46: 沒做過，但覺得原理相同+1 03/21 03:20
2F：→ jam46: 感覺RIE跟氧電漿是不是只差在氣體不同而已啊？ 03/21 03:21
3F：→ ewings: RIE第一段不是就是用氧電漿清腔體嗎？ 03/21 12:44