作者heats (進算加罰)
看板NEMS
標題[問題] 正光阻顯影後有殘留
時間Sun Sep 11 02:20:37 2016
正光阻是AZ 4562S
採用Spray coating的方式
As coating發現TSV via的底部有圓形的defect(中間透光，外圈黑，似bubble)
該區域光阻厚度頂多3～5um
Exp. dose 720mj
經過顯影後，居然還殘留在該位置
造成後續蝕刻有OX remain
想請問各位版友
spray過程確實有可能產生bubble
但bubble也應該在顯影後被去除吧
會有可能是沒有光酸的樹酯嗎?
可能的機制又難以連結....
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