作者heats (进算加罚)
看板NEMS
标题[问题] 正光阻显影後有残留
时间Sun Sep 11 02:20:37 2016
正光阻是AZ 4562S
采用Spray coating的方式
As coating发现TSV via的底部有圆形的defect(中间透光，外圈黑，似bubble)
该区域光阻厚度顶多3～5um
Exp. dose 720mj
经过显影後，居然还残留在该位置
造成後续蚀刻有OX remain
想请问各位版友
spray过程确实有可能产生bubble
但bubble也应该在显影後被去除吧
会有可能是没有光酸的树酯吗?
可能的机制又难以连结....
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