作者jaychou515 (Hoshiya)
看板NEMS
標題[問題] 厚光阻AZ4620曝光問題
時間Thu May 26 12:48:11 2016
現在正嘗試用兩層AZ4620 共15um膜厚製作8um線寬。
第一層
2000轉 / 60秒
軟烤110度/ 120秒
第二層
900轉 / 60秒
軟烤110度 / 480秒
以350w汞燈曝光20秒 => 過曝，但8um線寬也差不多8um
改曝15秒後 => 曝光量不足
請問這樣是否是第二層光阻未烤乾?
P.S. 目前黃光只有hotplate
另外想請問4620用曝後烤，會不會有助於光阻的垂直度?
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1F：推 sunchloveann: 1500轉 應該就有12~40um了 為何要double coating呢? 05/26 17:57
2F：→ sunchloveann: 打錯 12~14um 05/26 17:57
3F：→ sunchloveann: AZP4620曝後烤 除非你的參數抓非常準 05/26 17:59
4F：→ sunchloveann: 不然曝後烤完 顯影就哭哭了 05/26 17:59
5F：→ sunchloveann: 我自己的經驗是 AZP4620曝後烤會讓圖形毀掉 05/26 18:01
6F：→ jaychou515: 我單層轉出來的比datasheet少很多，所以才用兩層 05/29 01:48
7F：→ sunchloveann: AZP4620有型號 你該不會買用到稀一點的型號吧 05/30 10:25
8F：→ sunchloveann: 你的光阻黏制度 有跟 金都念慈庵川貝枇杷膏一樣嗎 05/30 10:26
9F：→ sunchloveann: 要有點黏稠喔 不可以太稀 不然轉出來就是比較薄 05/30 10:26
10F：→ jaychou515: 應該是蠻稠的 06/04 14:04