作者jaychou515 (Hoshiya)
看板NEMS
标题[问题] 厚光阻AZ4620曝光问题
时间Thu May 26 12:48:11 2016
现在正尝试用两层AZ4620 共15um膜厚制作8um线宽。
第一层
2000转 / 60秒
软烤110度/ 120秒
第二层
900转 / 60秒
软烤110度 / 480秒
以350w汞灯曝光20秒 => 过曝，但8um线宽也差不多8um
改曝15秒後 => 曝光量不足
请问这样是否是第二层光阻未烤乾?
P.S. 目前黄光只有hotplate
另外想请问4620用曝後烤，会不会有助於光阻的垂直度?
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1F：推 sunchloveann: 1500转 应该就有12~40um了 为何要double coating呢? 05/26 17:57
2F：→ sunchloveann: 打错 12~14um 05/26 17:57
3F：→ sunchloveann: AZP4620曝後烤 除非你的参数抓非常准 05/26 17:59
4F：→ sunchloveann: 不然曝後烤完 显影就哭哭了 05/26 17:59
5F：→ sunchloveann: 我自己的经验是 AZP4620曝後烤会让图形毁掉 05/26 18:01
6F：→ jaychou515: 我单层转出来的比datasheet少很多，所以才用两层 05/29 01:48
7F：→ sunchloveann: AZP4620有型号 你该不会买用到稀一点的型号吧 05/30 10:25
8F：→ sunchloveann: 你的光阻黏制度 有跟 金都念慈庵川贝枇杷膏一样吗 05/30 10:26
9F：→ sunchloveann: 要有点黏稠喔 不可以太稀 不然转出来就是比较薄 05/30 10:26
10F：→ jaychou515: 应该是蛮稠的 06/04 14:04