作者sunchloveann (北微戰神)
看板NEMS
標題Re: [問題] 關於鍍膜的問題
時間Thu Mar 31 22:48:25 2016
※ 引述《jack810316 ()》之銘言:
: 大家好
: 有個關於鍍薄膜的小問題
: 如果我預計在一個高分子薄膜(PVDF)的兩面上鍍上鋁電極圖案
: 兩面的電極只有一小部分要重疊,必須精準對位
: 我想到利用個兩片遮罩 把PVDF夾在中間 上下面只露出要鍍的圖案
: 這樣只要一面鍍完再翻面鍍另一面就好
: 不曉得我這個想法是否是可行的
: 還是有什麼重點是我忽略的
: 有查過一些文獻
: 是用微影蝕刻的方式在做
: 因為設備的關係 才想看看這個方法能不能用
: 感謝
如果你的電極圖形很大,要雙面電極重疊
鍍完後形成壓電模式d31以利後續驅動PVDF或是當作訊號輸出是可行的
只要自己手工對位準一點,然後確定正面跟反面露出來的位置一致既可
但如果你的圖形很小或是又要對的很精準
那你的做法會稍微困難點
如果是我要雙面很精準,我的作法很費工
而且有些PVDF類型的壓電不適合(因為要進丙酮,
有些型號的PVDF會被丙酮摧毀,但大多的PVDF部會)
所以我的方法還是提供給你參考
首先我會選用Lift-Off製程或是Metal蝕刻製程
這邊我就以Lift-off製程做說明
Step1. 正反兩面旋塗上光阻,軟烤完後曝光上面再顯影而後DI water沖洗然後吹乾
第一步驟就會將正面你要的圖案顯出(要鍍的地方沒光阻,不要鍍的地方有光阻)
Step2. 反面用Duble side雙面曝光機對準正面圖形對位,然後曝光顯影同第一步後面
第二步驟則會確保你正反兩面的圖案位置一致
Step3.蒸鍍或濺鍍Al 在雙面上,沒光阻的圖形就會被蒸鍍或濺鍍上材料
Step4.材料沉積完畢將試片放入丙酮去除光阻,此時有光阻部分上的金屬會因為
光阻被丙酮溶解而掏空掀離(lift-off)而本來就沒光阻的地方就是你的電極牢牢在上面
Step5.DI water沖洗然後吹乾完工
以上是做很微小圖形且須精密時的方式
如果你有更多問題想問
可以打電話到 台大奈米機電中心(02)33665063 找林博或是張博討論
他們會很樂意回答你的問題
當然如果你不需要很精密,那真的擋照手工對一對就可以了
不然你還要畫光罩
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1F:推 jack810316: 感謝你的回覆! 04/01 12:21