※ 引述《jack810316 ()》之铭言： : 大家好 : 有个关於镀薄膜的小问题 : 如果我预计在一个高分子薄膜(PVDF）的两面上镀上铝电极图案 : 两面的电极只有一小部分要重叠,必须精准对位 : 我想到利用个两片遮罩 把PVDF夹在中间 上下面只露出要镀的图案 : 这样只要一面镀完再翻面镀另一面就好 : 不晓得我这个想法是否是可行的 : 还是有什麽重点是我忽略的 : 有查过一些文献 : 是用微影蚀刻的方式在做 : 因为设备的关系 才想看看这个方法能不能用 : 感谢 如果你的电极图形很大，要双面电极重叠 镀完後形成压电模式d31以利後续驱动PVDF或是当作讯号输出是可行的 只要自己手工对位准一点，然後确定正面跟反面露出来的位置一致既可 但如果你的图形很小或是又要对的很精准 那你的做法会稍微困难点 如果是我要双面很精准，我的作法很费工 而且有些PVDF类型的压电不适合(因为要进丙酮， 有些型号的PVDF会被丙酮摧毁，但大多的PVDF部会) 所以我的方法还是提供给你参考 首先我会选用Lift-Off制程或是Metal蚀刻制程 这边我就以Lift-off制程做说明 Step1. 正反两面旋涂上光阻，软烤完後曝光上面再显影而後DI water冲洗然後吹乾 第一步骤就会将正面你要的图案显出(要镀的地方没光阻，不要镀的地方有光阻) Step2. 反面用Duble side双面曝光机对准正面图形对位，然後曝光显影同第一步後面 第二步骤则会确保你正反两面的图案位置一致 Step3.蒸镀或溅镀Al 在双面上，没光阻的图形就会被蒸镀或溅镀上材料 Step4.材料沉积完毕将试片放入丙酮去除光阻，此时有光阻部分上的金属会因为 光阻被丙酮溶解而掏空掀离(lift-off)而本来就没光阻的地方就是你的电极牢牢在上面 Step5.DI water冲洗然後吹乾完工 以上是做很微小图形且须精密时的方式 如果你有更多问题想问 可以打电话到 台大奈米机电中心(02)33665063 找林博或是张博讨论 他们会很乐意回答你的问题 当然如果你不需要很精密，那真的挡照手工对一对就可以了 不然你还要画光罩 --

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