首先 我沒有hands on SU-8 3000系列，所以以下敘述都是理論而言 SU-8本身adhesion向來為人詬病。若你的光罩是dark field, 黃光後形成的pattern 都是孤島，那顯影時因為adhesion不足或是製成步驟中造成的thermal stress形成的 delamination，導致pattern被沖走也是理所當然 但若不是以上所言，基本上FULLY cross-linked的SU-8是幾乎不會被顯影液移除 所以跟你顯影搖十分鐘甚至更久都無關。 基本上有白色film出現，表示你的SU-8沒有fully crosslinked 而SU_-8的crosslinking由兩要素決定。曝光dose以及PEB 由於是用hotplate加熱，所以PEB溫度通常SU-8表面跟SU-8底層比起來會略顯不足 但這樣並不會造成你的pattern脫落 所以最有可能的原因是你曝光劑量不足，SU-8最底層並無足夠劑量產生photo generated Acid。所以最底層會被devloper溶解，因此整個pattern也隨之脫落。 曝光劑量的計算是intensity 乘以曝光時間。 intensity未知，曝光時間再多，意義也不大。 ※ 引述《jameskey (阿帕阿帕)》之銘言： : 標題: [問題]顯影完放在IPA裡有白色物質對後面製程影響 : 時間: Fri Dec 25 01:05:56 2015 : : 小魯用的光阻是SU8-3050跟它的顯影液， : : 小魯碰到問題就是小魯知道如果放在IPA裡 : : 顯影不乾淨後，就會有白色的附著物，就要 : : 在吹完氮氣後重複顯影液→IPA→D.I WATER的步驟， : : 可是小魯想說讓它完全顯影於是在顯影液搖了10min : : 上面的結構物就脫落了，這是怎麼回事阿? : : 小魯搖那麼久也是因為我厚度要做到100um : : http://www.microchem.com/pdf/SU-8%203000%20Data%20Sheet.pdf : : 所以遇上上面有白色的附著物正確步驟到底是如何?? : : 應該說版上大大如果要做到厚度是100um的話， : : 如果要避免白色附著物的話， : : 顯影液幾分鐘，IPA幾分鐘，D.I WATER幾分鐘???? : : 另外小魯因為要做微流道，所以要經過熱壓步驟， : : 不知道版上大大知不知道，如果si wafer上面的圖案有一層白色 : : 附著物會對後面製程造成什麼影響???? : : : : -- : To 小天使: 請問優遊卡多少錢阿 : ★小天使 批踢踢有悠遊卡？ : To 小天使: 沒有嗎 : ★小天使 沒有呀 : To 小天使: 那要搭捷運怎麼辦阿 : ★小天使 這跟批踢踢沒關係呀 幹 : : -- :

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