首先 我没有hands on SU-8 3000系列，所以以下叙述都是理论而言 SU-8本身adhesion向来为人诟病。若你的光罩是dark field, 黄光後形成的pattern 都是孤岛，那显影时因为adhesion不足或是制成步骤中造成的thermal stress形成的 delamination，导致pattern被冲走也是理所当然 但若不是以上所言，基本上FULLY cross-linked的SU-8是几乎不会被显影液移除 所以跟你显影摇十分钟甚至更久都无关。 基本上有白色film出现，表示你的SU-8没有fully crosslinked 而SU_-8的crosslinking由两要素决定。曝光dose以及PEB 由於是用hotplate加热，所以PEB温度通常SU-8表面跟SU-8底层比起来会略显不足 但这样并不会造成你的pattern脱落 所以最有可能的原因是你曝光剂量不足，SU-8最底层并无足够剂量产生photo generated Acid。所以最底层会被devloper溶解，因此整个pattern也随之脱落。 曝光剂量的计算是intensity 乘以曝光时间。 intensity未知，曝光时间再多，意义也不大。 ※ 引述《jameskey (阿帕阿帕)》之铭言： : 标题: [问题]显影完放在IPA里有白色物质对後面制程影响 : 时间: Fri Dec 25 01:05:56 2015 : : 小鲁用的光阻是SU8-3050跟它的显影液， : : 小鲁碰到问题就是小鲁知道如果放在IPA里 : : 显影不乾净後，就会有白色的附着物，就要 : : 在吹完氮气後重复显影液→IPA→D.I WATER的步骤， : : 可是小鲁想说让它完全显影於是在显影液摇了10min : : 上面的结构物就脱落了，这是怎麽回事阿? : : 小鲁摇那麽久也是因为我厚度要做到100um : : http://www.microchem.com/pdf/SU-8%203000%20Data%20Sheet.pdf : : 所以遇上上面有白色的附着物正确步骤到底是如何?? : : 应该说版上大大如果要做到厚度是100um的话， : : 如果要避免白色附着物的话， : : 显影液几分钟，IPA几分钟，D.I WATER几分钟???? : : 另外小鲁因为要做微流道，所以要经过热压步骤， : : 不知道版上大大知不知道，如果si wafer上面的图案有一层白色 : : 附着物会对後面制程造成什麽影响???? : : : : -- : To 小天使: 请问优游卡多少钱阿 : ★小天使 批踢踢有悠游卡？ : To 小天使: 没有吗 : ★小天使 没有呀 : To 小天使: 那要搭捷运怎麽办阿 : ★小天使 这跟批踢踢没关系呀 干 : : -- :

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