作者jameskey (阿帕阿帕)
看板NEMS
標題[問題]顯影完放在IPA裡有白色物質對後面製程影響
時間Fri Dec 25 01:05:56 2015
小魯用的光阻是SU8-3050跟它的顯影液，
小魯碰到問題就是小魯知道如果放在IPA裡
顯影不完全後，就會有白色的附著物，就要
在吹完氮氣後重複顯影液→IPA→D.I WATER的步驟，
可是小魯想說讓它完全顯影於是在顯影液搖了10min
上面的結構物就脫落了，這是怎麼回事阿?
小魯搖那麼久也是因為我厚度要做到100um
http://www.microchem.com/pdf/SU-8%203000%20Data%20Sheet.pdf
所以遇上上面有白色的附著物正確步驟到底是如何??
應該說版上大大如果要做到厚度是100um的話，
如果要避免白色附著物的話，
顯影液幾分鐘，IPA幾分鐘，D.I WATER幾分鐘????
另外小魯因為要做微流道，所以要經過熱壓步驟，
不知道版上大大知不知道，如果si wafer上面的圖案有一層白色
附著物會對後面製程造成什麼影響????
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To 小天使: 請問優遊卡多少錢阿
★小天使 批踢踢有悠遊卡？
To 小天使: 沒有嗎
★小天使 沒有呀
To 小天使: 那要搭捷運怎麼辦阿
★小天使 這跟批踢踢沒關係呀 幹
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※ 編輯: jameskey (140.115.222.93), 12/25/2015 01:16:53
1F：→ SkyLark2001: 曝光量不足 12/27 18:48
小魯曝光量90S，這樣還算蠻多的吧
※ 編輯: jameskey (140.115.222.93), 12/27/2015 23:53:56
※ 編輯: jameskey (140.115.222.93), 01/06/2016 12:24:47