作者jameskey (阿帕阿帕)
看板NEMS
标题[问题]显影完放在IPA里有白色物质对後面制程影响
时间Fri Dec 25 01:05:56 2015
小鲁用的光阻是SU8-3050跟它的显影液，
小鲁碰到问题就是小鲁知道如果放在IPA里
显影不完全後，就会有白色的附着物，就要
在吹完氮气後重复显影液→IPA→D.I WATER的步骤，
可是小鲁想说让它完全显影於是在显影液摇了10min
上面的结构物就脱落了，这是怎麽回事阿?
小鲁摇那麽久也是因为我厚度要做到100um
http://www.microchem.com/pdf/SU-8%203000%20Data%20Sheet.pdf
所以遇上上面有白色的附着物正确步骤到底是如何??
应该说版上大大如果要做到厚度是100um的话，
如果要避免白色附着物的话，
显影液几分钟，IPA几分钟，D.I WATER几分钟????
另外小鲁因为要做微流道，所以要经过热压步骤，
不知道版上大大知不知道，如果si wafer上面的图案有一层白色
附着物会对後面制程造成什麽影响????
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To 小天使: 请问优游卡多少钱阿
★小天使 批踢踢有悠游卡？
To 小天使: 没有吗
★小天使 没有呀
To 小天使: 那要搭捷运怎麽办阿
★小天使 这跟批踢踢没关系呀 干
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※ 编辑: jameskey (140.115.222.93), 12/25/2015 01:16:53
1F：→ SkyLark2001: 曝光量不足 12/27 18:48
小鲁曝光量90S，这样还算蛮多的吧
※ 编辑: jameskey (140.115.222.93), 12/27/2015 23:53:56
※ 编辑: jameskey (140.115.222.93), 01/06/2016 12:24:47