作者fswin321 (fswin321)
看板NEMS
標題[問題] BCB負光阻顯不乾淨
時間Sat Aug 8 00:04:44 2015
我在測試顯影一支BCB-4024的負光阻,
希望能做出20um厚度,並顯出洞,
未來當作passivation用,
先用Si基板上第一層BCB並顯影出洞,
第1層recipe為:
1.coating 1500rpm, 60 sec
2.軟烤 80度, 6 min
3.曝光 22 sec (220 mJ)
4.曝後烤 75度, 6 min
5.DS3000中浸泡並用震盪器震顯(顯影液溫度35度)
6.放入氮氣箱中無氧烘烤210度,40分
然後再上第2層BCB並顯影出較第一層大點的洞
第2層recipe為
1.coating 1500rpm, 60 sec
2.軟烤 85度, 4 min
3.曝光 26 sec (260 mJ)
4.曝後烤 70度, 6 min
5.DS3000浸泡手搖顯影(顯影液溫度35度)
現在還再調整第2層的recipe,
第2層不管怎麼調都很容易裂開,
所以不能用震盪器去顯影,
不然很容易洞周圍掀起來,
但是用手搖顯影容易顯不乾淨有殘渣,
如圖所示：
http://imgur.com/tN1GvGT
左一洞為顯乾淨， 其餘皆有些微殘渣,
有時候不乾淨再加顯,
反而會更多殘渣,
這支顯影液有點黏性,
常要氮氣槍吹很久才會看到底部,
Q1:
不知道什麼有效方法能顯乾淨,
還是說recipe需要調整?
Q2:
看板上其他負光阻(EX: SU8)都不會過顯,
但我發現我這支BCB會過顯並在洞周圍塌陷,
BCB調整好是否也不會有過顯問題?
我是第一次用BCB這支光阻,
顯影難度蠻高且沒聽過有人用過,
希望有使用過這光阻的板友能分享經驗,謝謝!
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※ 編輯: fswin321 (223.142.144.162), 08/08/2015 00:47:48
※ 編輯: fswin321 (223.142.144.162), 08/08/2015 02:10:07
1F：推 sean25059199: 有殘渣的是顯影時間不夠還是過顯造成有殘留渣渣？ 08/14 21:25
2F：→ fswin321: 過顯造成殘渣 08/15 19:23
3F：→ fswin321: 或者是光阻顯影完的反應物，剛好去不掉，無關過顯也有可 08/15 19:58
4F：→ fswin321: 能 08/15 19:58
5F：→ sean25059199: 你的feature多大, 如是小的話可以用超音波震盪幫忙 08/20 08:05
6F：→ sean25059199: 看到你第一層有用振盪器顯影, 所以第一層的洞比較小 08/20 08:08
7F：→ sean25059199: 不會有殘留光阻的問題是嗎？ 08/20 08:09
8F：→ sean25059199: 只有第二層有問題嗎？ 08/20 08:10
9F：→ fswin321: 第一層洞為30um, 第二層洞為45um 08/23 23:45
10F：→ fswin321: 第一層算是沒問題， 震顯不會有殘渣 08/23 23:47
11F：→ fswin321: 對， 只有第二層有問題， 第二層震顯圖案會破掉掀起來， 08/23 23:49
12F：→ fswin321: 所以手搖取代 08/23 23:49