作者fzudox (pc)
看板NEMS
標題[問題] 光阻AZ5214E膜厚
時間Tue May 19 14:37:38 2015
想請教各位
最近一直在試驗學姐留下來的參數
但是塗佈之後的厚度好像跟學姐的不一樣(比較厚)
先用HMDS在玻璃晶圓上一層膜
500轉5s、3000轉30s
加熱120度 10分鐘後
再進行AZ5214E塗佈
500轉8s、750轉5s、1600轉30s
學姐膜厚約2um，但我的有2.6um，最薄的一次有2.2um，但只有一次這麼薄
最一開始新手上路
光阻從冰箱取出就直接開始塗佈
量出來有4um
問過老師才知道要放至室溫，不然黏度會影響膜厚
但是現在有放至室溫，膜厚依然跟學姐的不一樣，而且比較厚
不知道要怎麼調才能降到2um，時間或轉速應該怎麼調呢?
另外我想問HMDS如果加太多
塗佈完、加熱後，還會影響AZ塗上去之後的厚度嗎?
PS 因為要曝光出最小線寬為1um的圖型，AZ做為負光阻，要反轉烤
如果厚度太厚(>2um)，就算參考學姐的曝光參數也是做不出來
煩請各位替小弟解答Orz
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 140.112.23.59
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※ 編輯: fzudox (140.112.23.59), 05/19/2015 14:38:26
1F：推 jeffdon2: 那就增加轉速啊，本來儀器用久了或多或少會有誤差 05/19 17:25
2F：→ jeffdon2: 當然要根據你現在的狀況去稍微調整 05/19 17:26
今天量膜厚 有2.7跟2.9um
轉速不確定要調到多少
因為我手邊沒有量膜厚的儀器
只能曝光顯影後才知道膜厚有多少
※ 編輯: fzudox (140.112.23.59), 05/19/2015 17:28:05
3F：→ jeffdon2: HMDS只是一層單分子層，基本上不會影響到你的厚度 05/19 17:27
4F：→ jeffdon2: 主要轉速從1600rpm增加到2000或是2500應該就接近2um了 05/19 17:28
好的 感謝!
我會試試看
※ 編輯: fzudox (140.112.23.59), 05/19/2015 17:30:38
5F：→ jeffdon2: 旋轉塗布的幾個重要因子如下:轉速大膜厚降 05/19 17:30
倒是塗佈的方法會影響膜厚嗎?
我是在晶圓上用塑膠滴管滴上光阻(約2.5ml)
然後先手動用慢轉速(~40rpm)讓光阻散開
因為光阻不會等向散開
會停下把已經接近邊緣的光阻用滴管吸起加到還沒被轉出去的地方，再繼續慢速轉
差不多佈滿晶圓後才開始塗佈
因為學姐畢業後我才開始做
我也不知道這樣做有沒有甚麼問題
※ 編輯: fzudox (140.112.23.59), 05/19/2015 17:36:14
6F：→ jeffdon2: 黏度高膜厚大，以及基板特性也會或多或少影響 05/19 17:31
7F：→ jeffdon2: 比較直接的方式是上網下載AZ5214E的datasheet 05/19 17:33
8F：→ jeffdon2: 轉速對膜厚的曲線都有提供在上面 05/19 17:33
9F：推 jeffdon2: 基本上都是直接滴了光阻就開始轉了，沒必要中途停下 05/19 17:48
10F：→ jeffdon2: 中途停下是有可能造成膜厚變動 05/19 17:49
11F：→ jeffdon2: 而且如果晶原有盡量放在吸盤的正中央且spincoater正常 05/19 17:51
12F：→ jeffdon2: 應該不會有分散不均的問題 05/19 17:51