作者fzudox (pc)
看板NEMS
标题[问题] 光阻AZ5214E膜厚
时间Tue May 19 14:37:38 2015
想请教各位
最近一直在试验学姐留下来的参数
但是涂布之後的厚度好像跟学姐的不一样(比较厚)
先用HMDS在玻璃晶圆上一层膜
500转5s、3000转30s
加热120度 10分钟後
再进行AZ5214E涂布
500转8s、750转5s、1600转30s
学姐膜厚约2um，但我的有2.6um，最薄的一次有2.2um，但只有一次这麽薄
最一开始新手上路
光阻从冰箱取出就直接开始涂布
量出来有4um
问过老师才知道要放至室温，不然黏度会影响膜厚
但是现在有放至室温，膜厚依然跟学姐的不一样，而且比较厚
不知道要怎麽调才能降到2um，时间或转速应该怎麽调呢?
另外我想问HMDS如果加太多
涂布完、加热後，还会影响AZ涂上去之後的厚度吗?
PS 因为要曝光出最小线宽为1um的图型，AZ做为负光阻，要反转烤
如果厚度太厚(>2um)，就算参考学姐的曝光参数也是做不出来
烦请各位替小弟解答Orz
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc), 来自: 140.112.23.59
※ 文章网址: https://webptt.com/cn.aspx?n=bbs/NEMS/M.1432017462.A.8E1.html
※ 编辑: fzudox (140.112.23.59), 05/19/2015 14:38:26
1F：推 jeffdon2: 那就增加转速啊，本来仪器用久了或多或少会有误差 05/19 17:25
2F：→ jeffdon2: 当然要根据你现在的状况去稍微调整 05/19 17:26
今天量膜厚 有2.7跟2.9um
转速不确定要调到多少
因为我手边没有量膜厚的仪器
只能曝光显影後才知道膜厚有多少
※ 编辑: fzudox (140.112.23.59), 05/19/2015 17:28:05
3F：→ jeffdon2: HMDS只是一层单分子层，基本上不会影响到你的厚度 05/19 17:27
4F：→ jeffdon2: 主要转速从1600rpm增加到2000或是2500应该就接近2um了 05/19 17:28
好的 感谢!
我会试试看
※ 编辑: fzudox (140.112.23.59), 05/19/2015 17:30:38
5F：→ jeffdon2: 旋转涂布的几个重要因子如下:转速大膜厚降 05/19 17:30
倒是涂布的方法会影响膜厚吗?
我是在晶圆上用塑胶滴管滴上光阻(约2.5ml)
然後先手动用慢转速(~40rpm)让光阻散开
因为光阻不会等向散开
会停下把已经接近边缘的光阻用滴管吸起加到还没被转出去的地方，再继续慢速转
差不多布满晶圆後才开始涂布
因为学姐毕业後我才开始做
我也不知道这样做有没有甚麽问题
※ 编辑: fzudox (140.112.23.59), 05/19/2015 17:36:14
6F：→ jeffdon2: 黏度高膜厚大，以及基板特性也会或多或少影响 05/19 17:31
7F：→ jeffdon2: 比较直接的方式是上网下载AZ5214E的datasheet 05/19 17:33
8F：→ jeffdon2: 转速对膜厚的曲线都有提供在上面 05/19 17:33
9F：推 jeffdon2: 基本上都是直接滴了光阻就开始转了，没必要中途停下 05/19 17:48
10F：→ jeffdon2: 中途停下是有可能造成膜厚变动 05/19 17:49
11F：→ jeffdon2: 而且如果晶原有尽量放在吸盘的正中央且spincoater正常 05/19 17:51
12F：→ jeffdon2: 应该不会有分散不均的问题 05/19 17:51