作者randy51300 (Randy)
看板NEMS
標題[問題] 光二極體 摻雜
時間Mon Mar 30 18:25:17 2015
板上各位賢拜大家好
小弟最近在photo diode的製程上有疑問
所以上此板跟大家請益
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內容:
小弟要製做一個PN junction
採用的方法為傳統擴散法
對於P junction 的形成是想要先上一層BSG(borosilicate glass)之後再進行退火擴散
做摻雜的動作
但問題就在
BSG是要以塗佈的方式還是要以沉積的方式進行
還請有經驗的賢拜不吝指教
謝謝
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