作者SkyLark2001 ( )
看板NEMS
標題Re: [問題] 購買靶材
時間Sun Nov 30 09:09:57 2014
※ 引述《az200522 (喀拉喀拉)》之銘言:
: 標題: [問題] 購買靶材
: 時間: Thu Nov 27 15:01:03 2014
:
: 這幾天購買靶材,
: 想買N或P -Si 靶,
: 規格濃度要多少,
: 或者阻值約為多少,:
: 可是很多業務員都說沒有在分濃度阻值,
: 只有跟我說純度多少而已,
: 請問一下,
: 是我問法問錯了嗎?
: 謝謝。
:
: --
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: → SkyLark2001: 你要問的是基板不是靶材 11/27 16:40
: → az200522: !!! 11/27 17:23
: → az200522: 基板?我是要裝在濺鍍機裡的。 11/27 17:23
既然確定你要買的是target,那你要做的事情是把以下這兩個網頁丟給業務
他們就會幫你去定訂
http://tinyurl.com/m7u93yu
http://tinyurl.com/kxybzwk
不過還是提醒一句,不確定跟你的目的有沒有關係
sputter的原理是用鈍氣離子轟擊把target的原子撞出來,
再用擴散方式沉積到substarte表面。所以長出來的膜是屬於機械性質跟電性取決於
膜本身的micro structure, 膜的micro strcuture決定因素是跟substrate temperature,
gas flux, substrate的表面缺陷等等。
換句話說是你精挑細選的target dopping濃度跟阻值,sputter鍍出來根本
不是那麼一回事。這也就是為什麼市面上不容易找特別訂製的特殊濃度阻值的
silicon target,你問業務他們也都不清楚。
再換句話說,sputter鍍膜有那麼好用可以決定silicon dopping濃度阻值的話,
所有晶圓廠的EPI 跟DIF Modlue都可以洗洗睡了
: 推 dandanboy234: 誰說沒有Si靶材的阿 11/27 21:24
: → nevinyrrals: sputter打出來的膜跟你靶材裡的成分比例不一定一致 11/28 19:59
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1F:推 az200522: 原來是這樣,那挑選濃度不就沒有意義了。 12/01 15:00
2F:→ kid50927: 為何一定要用濺鍍的? 12/05 13:45