1. 一般學界製作光罩的方式以濕蝕刻為主流， 主要是買來現成鍍好cr 跟塗上一層AZ 1518的一片五吋玻璃 先用雷射微影設備將光阻曝光，然後顯影，然後再去用商用Cr etchant蝕刻 優點是如果雷射微影設備免費，而且有現成參數的話，鍍好 Cr跟光阻的玻璃一片 十幾塊美金而已，品質很好。 缺點是沒有雷射微影設備是免費的。不然貴儀不會做一片賣你五萬新台幣 至於以濕蝕刻為主流而不使用liftoff的原因是liftoff會有金屬particle沾黏 玻璃表面的問題。對於particle 容忍度很低的光罩來說，是很不利的一點 2. 若你定要使用你的方式的話，那可用kapton tape貼滿新基板背面。可進sputter 不確定是否可在cr-7中存活。此外就是若撕下後還有餘膠沾黏，可用丙酮清洗 3. 建議先查paper看別人是怎樣自己製作PSM的。因為其實spinner就只是背後把 substrate吸住而已，不大會刮傷。反倒是glass dry etch, 我印象中才真的是蝕刻 的跟狗啃的一樣。 不過那都是十年前的經驗了 ※ 引述《captdavince (走自己的路)》之銘言： : 大家好 : 小弟我目前在思考要做一個mask，沒有很多無塵室經驗 : 想要請教一下各位 : 我需要使用quartz的基板，或者是別的高平整的基板 : 在上面需要microfabricate chromium pattern. : 目前大概會用PR->develop->sputter後remove PR : 目前我是擔心在spin coating PR的時候，會不會刮傷 quartz呢? : 還是說有什麼方法可以保護鏡片的另外一面呢? : 謝謝各位 --

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