1. 一般学界制作光罩的方式以湿蚀刻为主流， 主要是买来现成镀好cr 跟涂上一层AZ 1518的一片五寸玻璃 先用雷射微影设备将光阻曝光，然後显影，然後再去用商用Cr etchant蚀刻 优点是如果雷射微影设备免费，而且有现成参数的话，镀好 Cr跟光阻的玻璃一片 十几块美金而已，品质很好。 缺点是没有雷射微影设备是免费的。不然贵仪不会做一片卖你五万新台币 至於以湿蚀刻为主流而不使用liftoff的原因是liftoff会有金属particle沾黏 玻璃表面的问题。对於particle 容忍度很低的光罩来说，是很不利的一点 2. 若你定要使用你的方式的话，那可用kapton tape贴满新基板背面。可进sputter 不确定是否可在cr-7中存活。此外就是若撕下後还有余胶沾黏，可用丙酮清洗 3. 建议先查paper看别人是怎样自己制作PSM的。因为其实spinner就只是背後把 substrate吸住而已，不大会刮伤。反倒是glass dry etch, 我印象中才真的是蚀刻 的跟狗啃的一样。 不过那都是十年前的经验了 ※ 引述《captdavince (走自己的路)》之铭言： : 大家好 : 小弟我目前在思考要做一个mask，没有很多无尘室经验 : 想要请教一下各位 : 我需要使用quartz的基板，或者是别的高平整的基板 : 在上面需要microfabricate chromium pattern. : 目前大概会用PR->develop->sputter後remove PR : 目前我是担心在spin coating PR的时候，会不会刮伤 quartz呢? : 还是说有什麽方法可以保护镜片的另外一面呢? : 谢谢各位 --

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