作者fukjohn5566 (法克.約翰)
看板NEMS
標題[問題] 請問各位顯影時的問題
時間Mon Jul 28 19:57:58 2014
各位學長姐好
最近在做光蝕刻
用的光阻是正光阻AZ P4620
在wafer 上旋轉塗佈完厚度約8 um
想請問一下各位在顯影時是會固定晃動sample
還是靜待顯影時間到再一次拿起來?
因為兩種作法都有聽別人講過
不清楚哪種比較好? or 各有優缺點
感謝大家的心得與指教
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1F：→ tommy90644:晃動顯比較快吧! 07/29 15:48
2F：推 skyghostlove:我是靜置在顯影液中,時間到再拿起,我光阻厚度為2um的 07/31 10:05
3F：推 skyghostlove:搖動晃置是對於厚光阻我才會使用,如su8,顯影時就要快 08/01 00:17
4F：→ skyghostlove:速搖晃,比較顯的乾淨 08/01 00:18
感謝大家解答!!!
※ 編輯: fukjohn5566 (114.47.37.141), 08/03/2014 19:56:11
5F：→ tommy90644:az4620我也有用 我還是覺得搖動顯得很乾淨 08/04 11:01
6F：→ bbdd203: 晃動 因為不晃的話會過顯 profile不好 顯過頭會圓邊 08/14 22:14
7F：推 Jinuse: 晃動+1 08/15 01:03
8F：推 a876352000: 晃動顯比較均勻 08/22 06:49
9F：推 wgjfish: 先靜置一段時間再搖晃 時間是自己要去試的 09/02 18:02
10F：→ wgjfish: 但晃動也是有技巧 那時候我做的時候晃太大會容易過顯 09/02 18:03
11F：→ i21099: 可以先靜置幾秒，再晃動看看 09/14 02:36