作者fukjohn5566 (法克.约翰)
看板NEMS
标题[问题] 请问各位显影时的问题
时间Mon Jul 28 19:57:58 2014
各位学长姐好
最近在做光蚀刻
用的光阻是正光阻AZ P4620
在wafer 上旋转涂布完厚度约8 um
想请问一下各位在显影时是会固定晃动sample
还是静待显影时间到再一次拿起来?
因为两种作法都有听别人讲过
不清楚哪种比较好? or 各有优缺点
感谢大家的心得与指教
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1F：→ tommy90644:晃动显比较快吧! 07/29 15:48
2F：推 skyghostlove:我是静置在显影液中,时间到再拿起,我光阻厚度为2um的 07/31 10:05
3F：推 skyghostlove:摇动晃置是对於厚光阻我才会使用,如su8,显影时就要快 08/01 00:17
4F：→ skyghostlove:速摇晃,比较显的乾净 08/01 00:18
感谢大家解答!!!
※ 编辑: fukjohn5566 (114.47.37.141), 08/03/2014 19:56:11
5F：→ tommy90644:az4620我也有用 我还是觉得摇动显得很乾净 08/04 11:01
6F：→ bbdd203: 晃动 因为不晃的话会过显 profile不好 显过头会圆边 08/14 22:14
7F：推 Jinuse: 晃动+1 08/15 01:03
8F：推 a876352000: 晃动显比较均匀 08/22 06:49
9F：推 wgjfish: 先静置一段时间再摇晃 时间是自己要去试的 09/02 18:02
10F：→ wgjfish: 但晃动也是有技巧 那时候我做的时候晃太大会容易过显 09/02 18:03
11F：→ i21099: 可以先静置几秒，再晃动看看 09/14 02:36