作者sinek (Is 內褲唷~^.<)
看板NEMS
標題[問題] SU8-3000series 開電極洞
時間Thu Apr 3 17:50:25 2014
板上前輩好，
想請問一下關於SU8-3000series open electrode site的問題
製程的流程如下:
1. 玻璃基板使用AZ系列正光阻pattern
2.利用E-gun 製作metal trace , lift-off AZ PR
3.接下來塗佈 SU8 光阻 (大約1um~3um厚)
並且open electrode sites & touch pad (for 鱷魚夾)
電極尺寸 10um , 30um, 100um (直徑，我會設計左右各大1um)
4.利用AZ 正光阻 覆蓋wafer, pattern後只留下電極洞
5. Sputter 電極薄膜材料( 150nm,~300nm) 左右
6.lift-off AZ PR
以上大概是我的製程部分，
請問我該選用哪一種SU8光阻?
查過data sheet 似乎使用 3005會比較好，也想請有開過類似尺寸的前輩給點意見
謝謝(像是烘烤 塗佈 曝光等一些參數)
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文不成，武不就，古今頑愚，汗顏紈褲子
輕禮義，遠詩書，天下不肖，材庸平劣姿
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