作者sinek (Is 内裤唷~^.<)
看板NEMS
标题[问题] SU8-3000series 开电极洞
时间Thu Apr 3 17:50:25 2014
板上前辈好，
想请问一下关於SU8-3000series open electrode site的问题
制程的流程如下:
1. 玻璃基板使用AZ系列正光阻pattern
2.利用E-gun 制作metal trace , lift-off AZ PR
3.接下来涂布 SU8 光阻 (大约1um~3um厚)
并且open electrode sites & touch pad (for 鳄鱼夹)
电极尺寸 10um , 30um, 100um (直径，我会设计左右各大1um)
4.利用AZ 正光阻 覆盖wafer, pattern後只留下电极洞
5. Sputter 电极薄膜材料( 150nm,~300nm) 左右
6.lift-off AZ PR
以上大概是我的制程部分，
请问我该选用哪一种SU8光阻?
查过data sheet 似乎使用 3005会比较好，也想请有开过类似尺寸的前辈给点意见
谢谢(像是烘烤 涂布 曝光等一些参数)
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文不成，武不就，古今顽愚，汗颜纨裤子
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