作者LaDeSin (LaDeSin)
看板NEMS
標題[問題] 光阻問題
時間Mon Jan 20 21:41:51 2014
1.通常蝕刻或IMP前會加光阻硬烤，是為了增加光阻硬度和去sovent
但這硬烤應該能不做就不做，但我看大部份的Recipe都有，
甚麼樣的情況下能不做呢?
2.IMP高能量的時候會塗比較厚的光阻為了擋住IMP
和etch 時間比較長的時候，決定光阻厚度還有甚麼因素??
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◆ From: 180.177.13.192
※ 編輯: LaDeSin 來自: 180.177.13.192 (01/20 21:42)
1F：→ AKPPT:IMP是啥? 02/04 02:22
2F：推 SkyLark2001:implantation。半導體製程需要，MEMS製程較少見 02/04 23:57
3F：推 wade0222:半導體元件製程與設備的書籍應該都有解 02/15 01:44