作者wade0222 (MIAMI HEAT!!!)
看板NEMS
標題[問題] 曝光製程問題
時間Thu Nov 21 19:50:34 2013
想請問一下
如果材料在旋轉塗佈後
未烘烤，直接進行曝光
1. 薄膜裏頭還殘留著溶劑
那會發生怎麼樣的影響?
2. 曝光後，若是製程中不需要顯影，但也未硬烤
又會發生怎樣的影響?
請教各位大大!!! 感謝
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 140.123.121.75
1F：→ wkc0908:因為不需要顯影，很好奇你後續製程內容... 11/24 03:26
2F：推 SkyLark2001:正光阻的lift off有時會用到呀 11/24 12:45
3F：→ wade0222:是用LIFT-OFF沒錯@@ 11/25 09:55
4F：推 nasa01:沒硬烤 lift off 會分離的不好 11/26 14:09
5F：→ wade0222:我先不考慮lift-off的問題，因為連塗佈都還是個問題@@ 11/26 18:48