作者wade0222 (MIAMI HEAT!!!)
看板NEMS
标题[问题] 曝光制程问题
时间Thu Nov 21 19:50:34 2013
想请问一下
如果材料在旋转涂布後
未烘烤，直接进行曝光
1. 薄膜里头还残留着溶剂
那会发生怎麽样的影响?
2. 曝光後，若是制程中不需要显影，但也未硬烤
又会发生怎样的影响?
请教各位大大!!! 感谢
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※ 发信站: 批踢踢实业坊(ptt.cc)
◆ From: 140.123.121.75
1F：→ wkc0908:因为不需要显影，很好奇你後续制程内容... 11/24 03:26
2F：推 SkyLark2001:正光阻的lift off有时会用到呀 11/24 12:45
3F：→ wade0222:是用LIFT-OFF没错@@ 11/25 09:55
4F：推 nasa01:没硬烤 lift off 会分离的不好 11/26 14:09
5F：→ wade0222:我先不考虑lift-off的问题，因为连涂布都还是个问题@@ 11/26 18:48