作者nasa01 (123)
看板NEMS
標題[問題] su8 100 厚度
時間Wed Aug 7 12:09:03 2013
想請問一下
使用su8 光阻 (有用100 50 3050)
實驗都照參數走
以SU8-100為例
150 um厚度
500轉 30秒
2000轉 60秒
軟烤 65度 20min
95度 50min
冷卻
曝光 500mJ/cm2
曝後考 65度 1min
95度 12min
顯影
製作好母模去量都是70um~80um
參數也是上網查的
請問一下哪邊環節出了問題? 做了好幾十次都會厚度不足
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※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc)
◆ From: 203.64.97.123
1F：推 SkyLark2001:既然都上網查了，為什麼不用microChem的官方參數？ 08/07 13:54
2F：→ SkyLark2001:我看你的軟烤時間以及spin 60秒就知道這不是官方參數 08/07 13:55
4F：→ SkyLark2001:光阻厚度取決於spin cycle, MicroChem一律都是轉30S 08/07 14:00
5F：→ SkyLark2001:所以我會選擇用1750rpm轉30S，再針對轉出來的厚度 08/07 14:01
6F：→ SkyLark2001:增加或減少。至於table1跟fig1顯示還不一樣，你可以 08/07 14:01
7F：→ SkyLark2001:2000 rpm跟1750 rpm都試試看 08/07 14:01
8F：→ nasa01:參數是這個pdf沒錯，還是我看錯了? 08/07 18:48
9F：→ nasa01:即使是圖一，也是100um,可是我的都是70-80um 08/07 18:50
10F：→ nasa01:所以是，300轉30秒，1750轉30秒?? 08/07 18:59